光刻胶

富士通制造新的5.25英寸磁光盘
一、富士通制成新型5.25英寸磁光盘（论文文献综述）乐陶然[1]（2007）在《Co基稀土系记录薄膜磁化过程的微磁学模拟研究》文中进行了进一步梳理光磁混合记录方法,是一种可以突...
正负抗蚀技术的最新进展
一、负性与正性抗蚀剂技术的最新进展（论文文献综述）魏玮,刘敬成,李虎,穆启道,刘晓亚[1]（2014）在《微电子光致抗蚀剂的发展及应用》文中指出光致抗蚀剂,又称光刻胶,是微电子...