一、无触点自动引弧触发器（论文文献综述）
赵现君[1]（1995）在《无触点自动引弧触发器》文中认为简要介绍了无触点自动引弧触发器的工作原理、加工工艺及性能特点，并给出了具体电路及元器件参数。该触发器具有可靠性高、寿命长等优点。
苏朝辉[2]（2015）在《电弧源制备光学薄膜的技术研究》文中研究表明目前,电弧离子镀技术已发展成为薄膜技术领域中的一项重要的技术类别。电弧离子镀有提高靶材离化率、靶材离子动能以及薄膜沉积速率,靶源数量和位置可以任意安置等优点,所以其在工业领域非常盛行,广泛应用于模具、不锈钢板材、钢管、灯具、五金制品以及装饰材料等领域。膜层材料从以前的单层化合物演变发展出多种材料的化合物薄膜,并且在今后还会研究出多层复合薄膜,使其具有很高的研究和经济价值。本文首先进行了电弧离子镀引弧结构的优化,通过添加压板的方式提高了较软金属的紧固度,用引弧针代替引弧陶瓷,改变了引弧的方式,提高了起弧效率。对电弧源的稳弧和偏转磁场进行了设计并分析了其磁场分布,结果表明磁场能够达到偏转离子和消除“大颗粒”的作用。讨论了控制电路的实现方案,进行了绝缘栅双极型晶体管的驱动电路、多谐振荡器、电压比较电路的设计,对控制电路环节的性能进行了仿真测试,制作了电路PCB板并对其进行了检测。仿真与实验结果表明：在初次引弧和靶材熄弧时能够生成高压脉冲,而在引弧稳定后可以关闭脉冲信号,符合设计要求,镀膜工作时能够保持靶源电弧的持续稳定,稳定性较高,达到预期效果,从PCB板检测中发现电路运行时脉冲波形会受到一些干扰,需要进一步完善。研究了靶电流以及氧分量在制备过程中对薄膜沉积速率以及表面粗糙度的影响,得到以下结论：当电弧工作正常时,靶电流对薄膜沉积速率的影响很小,但是对薄膜表面粗糙度的影响却很大；氧分量正好相反,氧气浓度的大小并不会过度影响到薄膜的表面粗糙度,但可以很大程度上改变薄膜的沉积速率。因此在以后的制备过程中,可以通过改变氧气的分布来控制薄膜的沉积速率,并可以通过靶电流的变化来减小薄膜的表面粗糙度。
王志强,谭乘明,黄立超[3]（1995）在《与弧焊逆变器兼容的高频引弧器的研究》文中研究说明本文介绍一种能与弧焊逆变器良好兼容的新型高频引弧装置。文中分析了该引弧器的原理以及影响引弧高频强度的因素及其调节。试验结果表明，该装置引弧容易，控制调节方便，并实现了高频主电路的无触点切断。
清华大学机械系机械厂QSM—77型焊机研制小组[4]（1979）在《数控技术在全位置钨极氩弧焊机中的应用》文中研究表明本文叙述了全位置钨极氩弧焊机中采用的数控技术,实现焊接程序和规范的无触点控制,消除了高频引弧器对数控电路的严重干扰。本机采用了半导体存储器,使焊机自动控制水平有了新的提高。经初步试验,证明本机性能良好,运行稳定可靠。
谢鹏[5]（2013）在《直流电弧离子源及控制装置的研制》文中提出随着电弧离子镀技术的迅速发展,现如今电弧离子镀技术已经逐渐取代了其他各种类型的离子镀。由于使用这种技术可以使靶材离化率高,靶材离子动能很高、靶材离子沉积速率很快、靶源位置可以任意安装等优点。因此这种技术在工业领域非常盛行,广泛应用于模具、钢管、不锈钢板材、灯具、装饰材料以及五金制品等领域。而且镀层材料由单一氮化钛发展到碳氮化钛、氮化钛铝、氮化铬等多种材料并用,然后又进一步发展为多层复合镀层。所以对这种技术的研究具有经济价值。本课题以直流电弧离子镀为理论基础,设计了一款直流电弧离子源（即靶源）,包括冷却水系统的设计、引弧电极的设计以及靶源底板的设计。其中设计的冷却水系统可以最大限度地冷却靶源、零件的密封部件和绝缘材料。设计出的引弧电极是由三部分组成：起弧触头架、起弧底座、起弧瓷管。通过前面的设计绘制出电弧离子源零件图并加工。本设计使用Ansys有限元分析软件对磁场进行模拟仿真,并在此基础上完成靶源磁场的设计。此外,设计了自动控制装置,此装置包括基于IGBT引弧的高压脉冲电源、IGBT的驱动电路、控制信号PWM脉冲发生电路、主电源电流信号的检测和采集电路。此自动控制装置可以监控电弧放电的正常状态,一旦产生熄弧现象可以自动地进行再次引弧,从而达到稳定的电弧放电。此外设计的自动控制装置还可以通过对主电源电流信号的采集,达到计算薄膜的厚度目的。经过理论验证、设计原理图和装置的调试,基本完成设计要求。
西南曙光机械厂[6]（1980）在《山形波可控硅熔化极脉冲氩弧焊机》文中进行了进一步梳理 为解决铝合金薄壁构件的焊接,研制了专用的熔化极脉冲氩弧焊机。本文仅报导脉冲电源及程序控制器的研制情况。一、山形波可控硅脉冲焊接电源 1.设计原理脉冲焊接电源的设计原理,是使电源每提供一个电流脉冲能控制
杨瑾[7]（2007）在《逆变式直流弧焊及等离子切割电源的研究》文中研究说明在特种电源领域,逆变电源已逐渐成为其发展重点。而随着当今社会对节能、可靠性要求的提高,软开关技术已在逆变电源中占据了不可取代的地位。本文创造性的提出了一种焊割电源的理念,将移相全桥软开关技术应用其中,并对其进行了系统的研究。文章对零电压开关（ZVS）和零电压零电流开关（ZVZCS）两类软开关进行了比较分析,并对ZVZCS软开关的工作原理进行了详细分析,总结了几种典型的实现方案,最终采用由饱和电感实现滞后臂ZCS的移相全桥ZVZCS PWM变换器拓扑主电路,并结合ZVZCS实现条件进行了主电路设计,给出了设计原则。由于等离子切割电源有引弧要求,本文针对引弧电路也进行了原理分析和仿真建模,对产生条件采用了精确的数学表达式进行描述,给出了设计原则。并对高频引弧的吸收电路进行了研究。针对弧焊和等离子切割这种特殊两用的电源,本文分别详细介绍了其动、静态特性,在此基础上,进行了控制系统的设计,推导了移相全桥ZVZCS电路的小信号模型,并给出了控制参数的设计原则,为后续逆变电源的数字化工作打下了理论基础。此外,针对等离子切割的特殊需要,还详细介绍了时序控制基本要求和设计原则。在上述研究的基础上设计了一台250A/10kW逆变弧焊及空气等离子切割实验电源,并给出了实验结果。结果证明实验电源效率高,可靠性好,动静态特性强,体积小,重量轻,完全满足要求。
常诚[8]（2012）在《窄间隙埋弧焊送丝和行走系统的数字化研究》文中指出送丝和行走系统是窄间隙埋弧焊的一个重要组成部分,其送丝性能的好坏直接影响到焊接质量。数字化送丝和行走系统是采用高性能的控制芯片为核心控制器,通过软件来实现对送丝和行走系统的控制,具有定位准、控制简单、响应快速、灵活性突出等优势,大大提高送丝和行走系统的稳定性和准确性。本文深入的分析了窄间隙埋弧焊焊接过程中的送丝和行走控制模式,并在此基础上设计了以dsPIC30F6015为核心控制器的窄间隙埋弧焊送丝和行走控制系统。根据窄间隙埋弧焊对送丝和行走系统精度的要求,本设计送丝系统采用电枢电流,送丝电动机转速、焊接电弧电压三闭环反馈,行走系统采用电枢电流配合电机转速的双闭环反馈,并结合了广泛使用的PI算法,实现了对送丝和行走速度的精确控制。根据窄间隙埋弧焊送丝和行走系统所要实现的功能,设计了符合送丝和行走系统要求的驱动机构,硬件电路和软件程序。送丝驱动电机采用DC SERVO MOTOR110SZ03直流伺服电动机,传动机构采用直齿圆柱配合涡轮蜗杆的两级减速设计,实现了送丝速度在0.4m/min-4m/min范围内的任意调节。行走驱动电机采用DCSERVO MOTOR110SZ01直流伺服电动机,传动机构采用两级的涡轮蜗杆减速设计,实现了行走速度在0.075m/min～1.3m/min范围内的任意调节。送丝和行走系统的硬件部分设计围绕dsPIC30F6015核心控制器展开,包括+5V、±15V电源,电机H式驱动电路,电弧电压和焊接电流的采样电路,转速和电枢电流的采样电路,RS-485的通信网络和显示界面的设计。送丝和行走系统的软件部分采用的是模块化设计,完成了焊接电流的采样模块,电枢电压的采样模块,电机转速的采样模块,电枢电流的采样模块,焊接参数的显示模块,总线的通信模块,并在此基础上,完成了引弧、熄弧、焊接过程的送丝控制程序和焊接过程的行走控制程序。送丝和行走系统的软件部分编写、调试和软硬件的测试主要在Windows操作界面下的MPLAB集成开发系统中实现。送丝和行走实验结果表明：实现了窄间隙埋弧焊数字化送丝和行走
陈要玲[9]（2008）在《IGBT逆变式等离子弧切割电源》文中研究说明等离子切割法是以等离子弧为热源的高能率熔化切割方法,具有切割速度快、切口的热影响区窄、工件变形小、可切割材料广泛、操作方便等优点。目前空气等离子切割已成为机械制造工业中不可缺少的新工艺。切割逆变技术是针对切割电弧负载特性和切割工艺要求,应用现代电力电子学理论和自动控制理论,实现电能的高效变换和控制的一门应用学科。其研究内容横跨焊接电弧物理、切割工艺学、功率电子和电磁器件及开关电路拓扑等各个领域。切割逆变电源现在正向着高效、节能、优质的方向发展。本论文主要介绍了所研制的等离子切割电源的组成结构和控制原理。分别就电源主电路、控制系统中的驱动电路、保护电路以及高频引弧电路做了详细的分析,并从软硬件两个方面给予了系统的阐述。该切割电源选取IGBT为主控开关功率转换器件,采用输出功率较大的全桥式逆变结构,配以高频变压器和输出电抗器组成了本系统的主电路系统,讨论了高频变压器的设计要点,IGBT的特性与使用时的注意事项等,并在MATLAB中对所设计的主电路进行了仿真。控制电路以16位高性能单片机80C196KC为核心,对整个电源进行实时精确闭环控制,文中采用了目前比较常用的脉宽调制方法来控制切割电源的输出外特性,单片机输出的控制量经D/A转换后,通过脉宽调制芯片SG3525调制出两路互不重叠的触发脉冲,再经IGBT专用驱动模块进行功率放大后触发IGBT,以实现功率的输出。系统实时对输出电流进行采样,并将采样结果送入单片机进行A/D转换,在单片机内部实现离散PI算法后,输出相应的控制量来调节脉宽调制芯片的输出脉宽,进而调整输出电流,以此来达到控制切割电源外特性的目的。保护电路主要涉及到过流保护、过热保护、过压以及欠压保护等。在电源的主电路和控制电路部分都进行了可靠性与抗干扰设计,系统分析了可能影响电源正常工作的各种干扰及其产生原因,并在原理图设计、PCB制作以及程序编制的过程中采取了相应的软硬件抗干扰措施。所采取的硬件措施主要包括:屏蔽技术、滤波技术、隔离及接地技术等;采取的软件措施主要有:看门狗、冗余指令、数字滤波等。另外,还对逆变电源设计中存在的不足进行了探讨。通过试验,对该电源的实施方案、组成部分以及调试中的一些问题进行了分析,得到了初步的结果。最后,针对该切割电源的后续研究工作提出了进一步完善的建议,为本切割电源今后的深入研究打下了良好的基础。
姚舜,愈海良,何德孚[10]（1987）在《自动电弧焊环缝搭接段的质量控制》文中进行了进一步梳理 本文针对小直径容器环缝自动焊常见焊接缺陷——搭接段未焊透问题,提出一个新的环缝搭接段焊透质量数字控制系统。该系统有一个光电编码、脉冲计数的位置——转速监测控制装置。允许工件在任意时钟位置启动引孤,并在完成环缝焊接且满足预定的搭接段长度要求时,自动停车终止焊接过程。该系统还有一个慢送丝引弧控制环节。本文还就计数脉冲的产生、整形、计数电路的设计以及抗干扰问题展开讨论。
二、无触点自动引弧触发器（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、无触点自动引弧触发器（论文提纲范文）
（2）电弧源制备光学薄膜的技术研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 光学薄膜制备技术 |
| 1.1.1 热蒸发 |
| 1.1.2 溅射沉积 |
| 1.1.3 离子镀 |
| 1.1.4 化学气相沉积 |
| 1.2 电弧离子镀技术 |
| 1.2.1 电弧与电弧离子镀 |
| 1.2.2 电弧离子镀的优缺点 |
| 1.2.3 电弧离子镀的历史及发展现状 |
| 1.3 本文主要研究内容 |
| 2 电弧离子源结构设计 |
| 2.1 引弧结构的优化 |
| 2.1.1 电弧离子镀的引弧方式 |
| 2.1.2 引弧结构的优化 |
| 2.2 冷却系统优化 |
| 2.3 总体结构 |
| 2.4 加工材料选择 |
| 2.5 小结 |
| 3 磁场设计与分析 |
| 3.1 外加磁场对弧斑运动的影响 |
| 3.2 靶源磁场设计 |
| 3.3 “大颗粒”的产生与净化 |
| 3.3.1 “大颗粒”的产生原因 |
| 3.3.2 “大颗粒”的净化方法 |
| 3.4 偏转磁场设计 |
| 3.5 磁场分析 |
| 3.6 小结 |
| 4 起弧控制电路设计 |
| 4.1 高压脉冲电源 |
| 4.1.1 高压脉冲电源的选择 |
| 4.1.2 高压脉冲电源技术指标 |
| 4.1.3 功率半导体开关的选择 |
| 4.2 绝缘栅双极晶体管 |
| 4.2.1 IGBT的结构 |
| 4.2.2 IGBT的静态特性 |
| 4.2.3 IGBT的动态特性 |
| 4.3 IGBT驱动电路 |
| 4.3.1 IGBT驱动电路器件选择 |
| 4.3.2 驱动电路设计 |
| 4.4 脉冲发生电路设计 |
| 4.5 比较电路设计 |
| 4.6 电路总体结构 |
| 4.7 电路仿真 |
| 4.8 印制电路板的制作与检测 |
| 4.8.1 印制电路板的制作 |
| 4.8.2 PCB板检测 |
| 4.9 小结 |
| 5 薄膜制备的工艺研究 |
| 5.1 薄膜检测设备 |
| 5.1.1 椭圆偏振光谱仪 |
| 5.1.2 白光干涉仪 |
| 5.2 靶电流对薄膜制备的影响 |
| 5.2.1 靶电流对薄膜沉积速率的影响 |
| 5.2.2 靶电流对薄膜表面粗糙度的影响 |
| 5.3 氧分量对薄膜制备的影响 |
| 5.3.1 氧分量对薄膜沉积速率的影响 |
| 5.3.2 氧分量对薄膜表面粗糙度的影响 |
| 5.4 小结 |
| 6 结论与展望 |
| 6.1 结论 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文 |
| 致谢 |
（5）直流电弧离子源及控制装置的研制（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 真空制备光学薄膜技术 |
| 1.2 真空电弧离子镀技术的原理 |
| 1.3 电弧源离子镀的发展历程和研究现状 |
| 1.4 本文主要研究内容 |
| 2 直流电弧离子源的设计 |
| 2.1 电弧离子蒸发源的分类 |
| 2.2 电弧离子源的主要参数 |
| 2.3 电弧离子源各个零件材料选择要求 |
| 2.4 不同零部件的材料选择分析 |
| 2.5 电弧离子源的设计方案 |
| 2.5.1 电弧离子源冷却水系统设计 |
| 2.5.2 电弧离子源引弧机构的设计 |
| 2.5.3 电弧离子源的电路设计 |
| 3 靶源磁场的设计 |
| 3.1 电弧离子源磁场的形式 |
| 3.2 磁场计算理论基础 |
| 3.3 靶源磁场结构设计 |
| 3.4 模拟仿真磁场线圈的磁力线分布 |
| 4 控制装置的设计 |
| 4.1 高压脉冲电源的分类 |
| 4.1.1 高压脉冲电源技术要求 |
| 4.1.2 高压脉冲电源的技术指标及技术方案 |
| 4.1.3 开关器件的选择 |
| 4.2 IGBT的结构和工作原理 |
| 4.3 IGBT的基本特性 |
| 4.3.1 IGBT的静态特性 |
| 4.3.2 IGBT的动态特性 |
| 4.3.3 IGBT的参数选取 |
| 4.3.4 高压脉冲电源设计方案 |
| 4.4 IGBT驱动电路 |
| 4.4.1 EXB841工作原理 |
| 4.5 控制信号PWM脉冲发生电路的设计 |
| 4.5.1 控制信号PWM脉冲发生电路的工作原理 |
| 4.5.2 电路频率和占空比的计算 |
| 4.5.3 控制信号PWM脉冲发生电路的仿真 |
| 4.6 主电源电流信号的检测电路的设计 |
| 4.6.1 电流信号的检测 |
| 4.6.2 比较环节电路设计 |
| 4.7 电流信号的采集电路的设计 |
| 5 测量的建立与结果说明 |
| 5.1 测量的建立 |
| 5.2 结果说明 |
| 6 结论 |
| 6.1 总结 |
| 6.2 展望 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
（7）逆变式直流弧焊及等离子切割电源的研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 1 绪论 |
| 1.1 国内外焊割电源的发展及现状 |
| 1.2 焊割电源的研究重点 |
| 1.3 本文研究目的和主要内容 |
| 2 移相全桥软开关PWM 变换器研究 |
| 2.1 移相全桥ZVS PWM 变换器 |
| 2.2 移相全桥ZVZCS PWM 变换器 |
| 2.3 本章小结 |
| 3 主电路工作原理及设计 |
| 3.1 主电路工作原理 |
| 3.2 主电路软开关的实现 |
| 3.3 电源多功能化的研究 |
| 3.4 主电路参数设计 |
| 3.5 本章小结 |
| 4 高频引弧电路的研究 |
| 4.1 引弧电路的工作原理及数学模型分析 |
| 4.2 引弧电路及参数设计 |
| 4.3 高频引弧吸收电路的研究 |
| 4.4 本章小结 |
| 5 控制系统的研究 |
| 5.1 焊割电源对控制系统的特殊要求 |
| 5.2 控制系统PI 参数及电路研究与设计 |
| 5.3 时序控制的研究 |
| 5.4 本章小结 |
| 6 实验结果及分析 |
| 7 全文总结 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
（8）窄间隙埋弧焊送丝和行走系统的数字化研究（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 引言 |
| 1.2 送丝和行走系统的概念和技术发展现状 |
| 1.2.1 传统的控制阶段 |
| 1.2.2 数字化控制阶段 |
| 1.2.3 数字化控制优势 |
| 1.3 数字化送丝和行走系统国内外的研究现状 |
| 1.4 数字化系统研究的目的与意义 |
| 1.5 本课题主要研究内容 |
| 2 焊接过程的送丝和行走控制策略 |
| 2.1 焊接过程中的送丝控制策略 |
| 2.1.1 变速送丝控制的必要性 |
| 2.1.2 电弧电压负反馈送丝控制策略 |
| 2.2 引弧过程送丝控制策略 |
| 2.3 收弧过程送丝控制策略 |
| 2.4 焊接过程中的行走机构控制策略 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 送丝系统的硬件设计 |
| 3.1 窄间隙埋弧焊控制系统 |
| 3.2 送丝控制系统的设计要求和总体设计方案 |
| 3.3 送丝核心系统设计 |
| 3.3.1 送丝系统核心控制器选择 |
| 3.3.2 送丝系统核心控制器性能优势 |
| 3.3.3 核心控制器引脚资源和端口的分配 |
| 3.3.4 时钟振荡电路设计 |
| 3.3.5 复位电路设计 |
| 3.3.6 程序烧写和在线调试电路接口设计 |
| 3.4 送丝控制系统电源设计 |
| 3.5 送丝控制电路和信号采样电路设计 |
| 3.5.1 送丝电机控制电路设计 |
| 3.5.2 光电隔离电路设计 |
| 3.5.3 送丝电机转速和电枢电流的采样电路设计 |
| 3.5.4 焊接电流和电弧电压的采样电路设计 |
| 3.6 送丝系统显示界面和通信网络设计 |
| 3.7 行走系统的硬件电路设计 |
| 3.8 硬件电路抗干扰设计 |
| 3.9 本章小结 |
| 4 送丝驱动机构设计 |
| 4.1 送丝电动机选择 |
| 4.2 送丝电机控制原理 |
| 4.3 送丝电机特性分析 |
| 4.4 送丝驱动机构的选型 |
| 4.5 行走系统的驱动机构的设计 |
| 4.6 本章小结 |
| 5 送丝和行走控制系统软件设计 |
| 5.1 送丝系统设计任务和总体结构 |
| 5.2 软件开发设计平台 |
| 5.3 送丝控制方案设计 |
| 5.3.1 送丝控制算法 |
| 5.3.2 送丝闭环控制设计 |
| 5.4 焊接过程的送丝控制程序设计 |
| 5.4.1 送丝控制系统主程序 |
| 5.4.2 引弧过程送丝程序设计 |
| 5.4.3 熄弧过程送丝程序设计 |
| 5.4.4 焊接过程送丝程序设计 |
| 5.5 送丝控制系统的功能模块设计 |
| 5.5.1 电机驱动模块设计 |
| 5.5.2 A/D模块设计 |
| 5.5.3 速度采样模块设计 |
| 5.5.4 通信模块设计 |
| 5.5.5 液晶显示模块设计 |
| 5.6 行走系统的软件设计 |
| 5.7 本章小结 |
| 6 系统的测试和结果分析 |
| 6.1 硬件的测试 |
| 6.1.1 硬件电路的仿真测试 |
| 6.1.2 硬件的电路板制作 |
| 6.2 软件的调试 |
| 6.3 送丝和行走实验结果分析 |
| 6.4 本章小结 |
| 7 结论 |
| 参考文献 |
| 附录A 送丝控制系统的硬件设计图 |
| 附录B 送丝控制系统的硬件电路版 |
| 攻读硕士阶段发表论文及科研成果 |
| 致谢 |
（9）IGBT逆变式等离子弧切割电源（论文提纲范文）
| 摘要 |
| ABSTRACT |
| 插图索引 |
| 附表索引 |
| 第1章 绪论 |
| 1.1 等离子弧切割技术的发展及课题意义 |
| 1.1.1 等离子弧切割技术的发展 |
| 1.1.2 选题的意义 |
| 1.2 等离子弧切割的原理 |
| 1.2.1 等离子体及等离子弧 |
| 1.2.2 等离子弧的类型 |
| 1.2.3 等离子弧切割原理及对电源的要求 |
| 1.3 常用热切割法及其特性对比 |
| 1.3.1 切割质量对比 |
| 1.3.2 切割速度和切割厚度对比 |
| 1.3.3 切割成本对比 |
| 1.4 逆变等离子弧切割电源的现状及发展趋势 |
| 1.4.1 逆变技术在切割电源中的应用 |
| 1.4.2 微机技术在逆变切割电源中的应用 |
| 1.5 本课题的设计方案及目标 |
| 第2章 等离子弧切割电源主电路系统 |
| 2.1 主电路拓扑结构的选择 |
| 2.2 逆变电源主变压器的设计方法及步骤 |
| 2.2.1 磁心选择 |
| 2.2.2 电压比及绕组匝数 |
| 2.3 IGBT的选取 |
| 2.3.1 IGBT的特性 |
| 2.3.2 IGBT电路参数的计算 |
| 2.4 输入电路的设计 |
| 2.4.1 合闸浪涌电流 |
| 2.4.2 整流滤波电路的设计 |
| 2.5 输出电路的设计 |
| 2.6 MATLAB下主电路的仿真 |
| 2.7 本章小结 |
| 第3章 等离子切割电源控制系统 |
| 3.1 控制系统的工作原理 |
| 3.2 控制系统的硬件组成 |
| 3.2.1 单片机最小系统 |
| 3.2.2 脉宽调制电路 |
| 3.2.4 数据采集与调理电路 |
| 3.2.5 保护电路 |
| 3.2.6 参数预置与显示电路 |
| 3.2.7 定时送气电路 |
| 3.2.8 高频引弧电路 |
| 3.3 控制系统的软件设计 |
| 3.3.1 主程序功能及实现 |
| 3.3.2 PI控制算法 |
| 3.4 本章小结 |
| 第4章 控制系统的抗干扰措施 |
| 4.1 硬件抗干扰措施 |
| 4.1.1 空间干扰的抑制措施 |
| 4.1.2 过程通道干扰的抑制 |
| 4.1.3 电源的抗干扰措施 |
| 4.1.4 印制电路板(PCB)的抗干扰 |
| 4.2 软件抗干扰措施 |
| 4.2.1 监视定时器(WDT) |
| 4.2.2 冗余指令 |
| 4.2.3 数字滤波 |
| 4.3 本章小结 |
| 第5章 系统调试及完善建议 |
| 5.1 系统调试 |
| 5.1.1 驱动输出波形测试 |
| 5.1.2 保护电路的调试 |
| 5.2 对系统进一步完善的几点建议 |
| 5.3 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 附录A(攻读学位期间所发表的学术论文目录) |
四、无触点自动引弧触发器（论文参考文献）
- [1]无触点自动引弧触发器[J]. 赵现君. 机车电传动, 1995(01)
- [2]电弧源制备光学薄膜的技术研究[D]. 苏朝辉. 西安工业大学, 2015(02)
- [3]与弧焊逆变器兼容的高频引弧器的研究[J]. 王志强,谭乘明,黄立超. 电焊机, 1995(04)
- [4]数控技术在全位置钨极氩弧焊机中的应用[J]. 清华大学机械系机械厂QSM—77型焊机研制小组. 焊接, 1979(03)
- [5]直流电弧离子源及控制装置的研制[D]. 谢鹏. 西安工业大学, 2013(04)
- [6]山形波可控硅熔化极脉冲氩弧焊机[J]. 西南曙光机械厂. 电焊机, 1980(02)
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