一、μμ-DIFFRACTION FROM PLANAR DEFECTS OF A PHASE OBCECT（论文文献综述）
C.M.Cowley[1]（1983）在《μμ-DIFFRACTION FROM PLANAR DEFECTS OF A PHASE OBCECT》文中指出1.Basic Theory When a small probe of electrons illuminates a thin crystal,we make use of the phase object approximation to establish the nature of the diffraction effects.Assuming the diffraction amplitudes outside of the zero beam are given by the Fourier transform of the projection of the crystal structure in the beam direction and the phase change of the electron wave passing through the thin film sample is small.
李昂,邹进,韩晓东[2]（2016）在《Ⅲ-Ⅴ族半导体与其异质结纳米线的生长（英文）》文中进行了进一步梳理这篇综述有针对性地对近几年III-V族化合物半导体和其异质结纳米线的生长进行了总结.首先详尽地介绍了单质和异质结III-V纳米线的生长机理,并且讨论了它们常见的晶体结构.然后总结了常见的III-V族纳米线的生长条件和工艺要点,包括生长温度,III/V比例,异质结材料和界面等对纳米线形貌和结构的影响.同时这篇综述也着重介绍了最新发展的表征纳米线晶体结构和物理性能的新技术,如:先进电子显微学、电子衍射、显微拉曼光谱原子探针断层扫描等.最后对纳米线研究和应用的未来发展提出了展望.
陈茂[3]（2015）在《聚合微凝胶胶体晶体水凝胶的研究与应用》文中提出具有刺激响应的微凝胶在生物传感领域有着重要的应用。然而基于微凝胶的胶体晶体水凝胶和缺陷胶体晶体的规模化制备仍然存在着一些问题。本论文基于具有温度敏感性的聚N-异丙基丙烯酰胺（PNIPAM）微凝胶进行了研究,围绕胶体晶体的交联、缺陷胶体晶体和敏感性微凝胶的制备开展了工作。首先,论文中提出了一种更方便有效的方法用于交联微凝胶胶体晶体。利用表面修饰双键的PNIPAM微凝胶,通过紫外光引发微凝胶表面双键发生自由基聚合反应,在无外加基质和交联剂的条件下实现微凝胶胶体晶体的交联,得到聚合微凝胶胶体晶体（PMCC）。PMCC对于温度和离子强度都具有敏感性,且响应过程可逆。通过改变温度和盐浓度,PMCC的禁带可以在整个可见光范围自由调节。除此之外,与其它固定PNIPAM微凝胶的方法不同,在PMCC中微凝胶的性质并没有因为交联固定而受到影响,而且跟普通水凝胶相比,PMCC具有更快的响应速度。其次,还制备了葡萄糖敏感性聚合微凝胶胶体晶体（GPMCC）用于葡萄糖浓度的比色传感。利用表面修饰双键的PNIPAM核壳结构微凝胶,在紫外光下引发微凝胶壳层双键发生自由基聚合反应,交联微凝胶得到以核壳结构微凝胶为构建单元的PMCC水凝胶,之后利用3-氨基苯硼酸修饰微凝胶核内部分,得到的PMCC水凝胶除了具有温度敏感性之外,还对葡萄糖浓度有很好的敏感性,也被称为GPMCC。随着葡萄糖浓度的增大,GPMCC水凝胶的颜色从蓝色依次变到绿色,红色和无色,禁带可以在整个可见光范围自由调节,实现了葡萄糖浓度的比色传感。虽然GPMCC水凝胶对于葡萄糖浓度的响应速度慢于PMCC水凝胶对于盐浓度的响应速度,但是与普通的葡萄糖敏感性水凝胶相比,GPMCC仍然具有更快的响应速度,其特征响应时间与微凝胶的更加接近。此外,还提出了一种新的方法用于人工缺陷胶体晶体的制备。利用粒径相同的聚N-异丙基丙烯酰胺（PNIPAM）微凝胶和N-异丙基丙烯酰胺与丙烯酸的共聚物[P（NIPAM-co-AAc）]微凝胶以任意比例混合后形成胶体晶体,之后将三维有序结构固定在丙烯酰胺（AAm）水凝胶基质中,得到聚合胶体晶体阵列（PCCA）。当pH大于AAc的pKa时,P（NIPAM-co-AAc）微凝胶溶胀,PCCA的光子禁带中呈现出缺陷态（可通过带）,从而得到人工缺陷胶体晶体。与其它掺入杂质的方法不同,此方法中缺陷的引入并未影响胶体晶体内部的有序性,而且人工缺陷胶体晶体中的缺陷可以通过温度和pH可逆地导入和擦除。最后,结合纳米银三角板和聚N-异丙基丙烯酰胺（PNIPAM）制备了一种具有光敏感性的复合微凝胶。首先合成了核内为纳米银三角板,中间层为SiO2,壳外层为PNIPAM的核壳结构微凝胶。之后利用核内纳米银三角板在近红外区的表面等离子体激元共振,吸收近红外光后将光能转化成为热能,使得壳层PNIPAM收缩,微凝胶粒径减小,吸光度增大,从而实现了复合微凝胶的光敏感性。得到的光敏感性微凝胶对于近红外光的响应具有很好的可逆性,而且响应速度也非常快。
朱良秋[4]（2020）在《高品质因子谐振型介质超表面的研究及应用》文中认为超材料凭借优异的光学特性如人造磁性、负折射率等,近十几年来在诸多领域获得广泛关注。不同于自然界传统材料,超材料的光学特性是由构成其结构的人造单元所决定,超材料为研究人员提供了极大的自由度,通过改变结构单元的形状、材料、周期大小或周期数来实现所需要的特性。超表面是三维超材料的二维化,为避免超材料复杂的加工工艺而衍生出来,超表面制备工艺简单,可以灵活调控光场特性,如金属结构单元组成的金属超表面,可以实现对入射光偏振、相位和振幅的调控。随着超表面的研究进入近红外和可见光波段,金属的本征损耗问题日渐凸显变得无法忽略。介质超表面的提出避免了金属超表面的损耗问题,介质超表面结构功能设计的理论基础为米氏散射。根据工作原理不同,介质超表面可以分为两类:一是相位梯度超表面,梯度超表面通过在亚波长尺度引入相位梯度实现对光场的调控,光束偏折特性遵从广义斯涅耳定律;二是谐振型超表面,谐振型超表面利用谐振特性实现光场增强,凭借小腔模体积、高品质因子以及集体相干共振特性,谐振型超表面可以有效增强光与物质相互作用以及抑制辐射损耗。针对金属超表面的损耗问题与提高介质超表面品质因子（Q值）,本论文通过仿真设计与结构优化,为获得高Q值介质超表面开展一系列仿真与实验摸索,成功制备出高Q值谐振型介质超表面器件,并探索高Q值谐振型超表面在传感、增强二维薄膜材料与硅缺陷发光上的应用。具体研究内容如下:（1）提出一种基于氮化硅材料的高Q值超表面结构,详细分析超表面高Q值谐振特性的形成机理以及超表面结构参数对Q值的影响。最终完成超表面样品的制备与测试,得到Q值约16670,透射谐振峰消光比约12 d B的超表面器件。超表面结构单元体积和周期的变化可以调节超表面Q值和谐振波长,为后续实验奠定了基础。（2）基于高Q值介质超表面,利用高Q值超表面的窄线宽谐振特性探测外界折射率变化。当外界折射率变化时,超表面谐振峰位置与消光比会发生改变,对比折射率变化前谐振峰位置与消光比,得出折射率传感品质因子,最终得到超表面的折射率传感品质因子可达367。而且,外界折射率变化时,超表面谐振峰位置与谐振消光比大小会同时变化,具有双变量探测的潜力。该高Q值超表面器件可以应用在传感领域。（3）创新性的将高Q值谐振型超表面与二维薄膜材料结合,提高二维材料发光效率,在玻璃衬底上沉积氮化硅薄膜制备高Q值孔型超表面样品,通过周期调节将超表面谐振峰移至可见光波段。在超表面样品上分别转移MoS2和WSe2薄膜材料,在室温连续光泵浦下,超表面谐振峰处对MoS2和WSe2薄膜的发光增强均超过30倍。该高Q值超表面器件可以应用在薄膜材料发光增强领域。（4）提出一种基于SOI的非对称孔型高Q值超表面结构,原理是通过打破对称性将完美连续域束缚态（BICs）模式转为准BICs模式同时保持高Q值,仿真上Q值可以超过1×108,详细分析了高Q值谐振的产生机理。最终在220 nm的SOI材料上完成超表面样品制备,将非对称孔型超表面谐振峰移至1278 nm处,增强超表面非对称孔刻蚀过程形成的碳-碳对缺陷（G-center）发光,最终对G-center发光峰的发光强度增强40倍,在低功率密度下发光峰出现类似于极低阈值激光器的线宽缩窄和超线性功率依赖特性。该高Q值超表面器件可以有效增强G-center发光,在硅基光源领域有着极大的应用潜力。
李晓[5]（2010）在《胶体晶体辅助构筑功能结构》文中研究指明微/纳结构的表面图案化技术因其在微电子、信息存储、微型传感器、光子材料等众领域的广泛应用得到了人们越来越多的关注。而胶体晶体自身周期有序结构与沉积、蒸镀、等离子刻蚀等技术的结合,更为二维或三维有序图案的构筑提供了新的发展空间。本论文中,我们结合软光刻技术和PDMS溶剂溶胀和机械拉伸的特性构筑了非紧密排列的二维胶体晶体,通过除去固定微球阵列的PVA膜层可以使整个构筑过程循环化。一方面的溶胀循环操作可以使晶格间距指数增长,另一方面的拉伸循环操作可以使晶格结构不局限于六方阵列同时调节晶格参数,通过合理的设计得到了所有五种二维阵列的布拉维格子结构。进一步,以非紧密排列的二维胶体晶体为等离子刻蚀的掩板构筑了荧光聚合物的纳米柱阵列。基于阵列结构减少发射光全反射和增强发射光耦合出射的原理,荧光聚合物纳米柱阵列比相应聚合物膜层存在明显的荧光增强,通过调节纳米柱阵列结构的晶格间距可以调控聚合物柱阵列的荧光强度。最后,在纳米柱制备方法基础上结合层层不同颜色荧光聚合物的旋涂工艺构筑了柱状荧光条形码阵列结构。控制纳米柱的段节数、聚合物的种类和每段节荧光聚合物的强度比例可以调节荧光条形码的编码能力,并且多段节纳米柱可以从基底上剥离形成条形码的悬浊液。
二、μμ-DIFFRACTION FROM PLANAR DEFECTS OF A PHASE OBCECT（论文开题报告）
（1）论文研究背景及目的
此处内容要求：
首先简单简介论文所研究问题的基本概念和背景，再而简单明了地指出论文所要研究解决的具体问题，并提出你的论文准备的观点或解决方法。
写法范例：
本文主要提出一款精简64位RISC处理器存储管理单元结构并详细分析其设计过程。在该MMU结构中,TLB采用叁个分离的TLB,TLB采用基于内容查找的相联存储器并行查找,支持粗粒度为64KB和细粒度为4KB两种页面大小,采用多级分层页表结构映射地址空间,并详细论述了四级页表转换过程,TLB结构组织等。该MMU结构将作为该处理器存储系统实现的一个重要组成部分。
（2）本文研究方法
调查法：该方法是有目的、有系统的搜集有关研究对象的具体信息。
观察法：用自己的感官和辅助工具直接观察研究对象从而得到有关信息。
实验法：通过主支变革、控制研究对象来发现与确认事物间的因果关系。
文献研究法：通过调查文献来获得资料，从而全面的、正确的了解掌握研究方法。
实证研究法：依据现有的科学理论和实践的需要提出设计。
定性分析法：对研究对象进行“质”的方面的研究，这个方法需要计算的数据较少。
定量分析法：通过具体的数字，使人们对研究对象的认识进一步精确化。
跨学科研究法：运用多学科的理论、方法和成果从整体上对某一课题进行研究。
功能分析法：这是社会科学用来分析社会现象的一种方法，从某一功能出发研究多个方面的影响。
模拟法：通过创设一个与原型相似的模型来间接研究原型某种特性的一种形容方法。
三、μμ-DIFFRACTION FROM PLANAR DEFECTS OF A PHASE OBCECT（论文提纲范文）
（3）聚合微凝胶胶体晶体水凝胶的研究与应用（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 第一章 引言 |
| 第一节 水凝胶 |
| 1.1.1 水凝胶的概述 |
| 1.1.2 水凝胶的溶胀 |
| 1.1.3 水凝胶的刺激响应性 |
| 第二节 刺激响应性胶体晶体水凝胶 |
| 1.2.1 胶体晶体水凝胶概述 |
| 1.2.2 温度敏感性胶体晶体水凝胶 |
| 1.2.3 化学物质敏感性胶体晶体 |
| 1.2.4 其它敏感性胶体晶体 |
| 第三节 葡萄糖敏感性材料的研究 |
| 1.3.1 葡萄糖敏感性材料研究的意义 |
| 1.3.2 葡萄糖敏感性材料的响应机理 |
| 1.3.3 葡萄糖敏感性胶体晶体 |
| 第四节 人工缺陷胶体晶体的研究 |
| 1.4.1 人工缺陷胶体晶体概述 |
| 1.4.2 人工缺陷胶体晶体的制备 |
| 1.4.3 刺激响应性人工缺陷胶体晶体 |
| 第五节 银纳米粒子的应用 |
| 1.5.1 等离子体激元光学 |
| 1.5.2 银纳米粒子的性质 |
| 第六节 PNIPAM微凝胶 |
| 1.6.1 PNIPAM微凝胶概述 |
| 1.6.2 PNIPAM微凝胶的合成和多功能化 |
| 1.6.3 PNIPAM微凝胶的响应动力学 |
| 1.6.4 PNIPAM微凝胶胶体晶体 |
| 第七节 本课题的提出 |
| 第二章 聚合微凝胶胶体晶体：禁带可控且快速响应的新型光子晶体水凝胶 |
| 第一节 前言 |
| 第二节 实验部分 |
| 2.2.1 实验药品 |
| 2.2.2 实验步骤 |
| 2.2.3 表征方法 |
| 第三节 结果与讨论 |
| 2.3.1 微凝胶P(NIPAM-co-AAc)的合成 |
| 2.3.2 微凝胶P(NIPAM-co-AAc)-HEMA的合成 |
| 2.3.3 聚合微凝胶胶体晶体（PMCC）水凝胶膜的制备 |
| 2.3.4 PMCC水凝胶膜的温度敏感性 |
| 2.3.5 PMCC水凝胶膜的离子强度敏感性 |
| 2.3.6 PMCC水凝胶膜的响应动力学 |
| 第四节 本章小结 |
| 第三章 葡萄糖敏感的聚合微凝胶胶体晶体：快速响应的比色传感器 |
| 第一节 前言 |
| 第二节 实验部分 |
| 3.2.1 实验药品 |
| 3.2.2 实验步骤 |
| 3.2.3 表征方法 |
| 第三节 结果与讨论 |
| 3.3.1 核壳微凝胶的合成 |
| 3.3.2 核壳微凝胶壳外层双键改性 |
| 3.3.3 聚合微凝胶胶体晶体（PMCC）水凝胶膜的制备 |
| 3.3.4 葡萄糖敏感性GPMCC水凝胶膜的制备 |
| 3.3.5 GPMCC水凝胶膜的温度敏感性 |
| 3.3.6 GPMCC水凝胶膜的葡萄糖敏感性 |
| 3.3.7 GPMCC水凝胶膜的响应动力学 |
| 第四节 本章小结 |
| 第四章 pH和温度可逆地导入和擦除缺陷的PNIPAM微凝胶人工缺陷胶体晶体 |
| 第一节 前言 |
| 第二节 实验部分 |
| 4.2.1 实验药品 |
| 4.2.2 实验步骤 |
| 4.2.3 表征方法 |
| 第三节 结果与讨论 |
| 4.3.1 PNIPAM与P(NIPAM-co-AAc)微凝胶的合成 |
| 4.3.2 混合微凝胶胶体晶体的制备 |
| 4.3.3 人工缺陷聚合胶体晶体阵列（PCCA）的制备 |
| 4.3.4 pH变化导入和擦除人工缺陷 |
| 4.3.5 温度变化导入和擦除人工缺陷 |
| 第四节 本章小结 |
| 第五章 纳米银三角板与PNIPAM复合的具有光敏感性的微凝胶 |
| 第一节 前言 |
| 第二节 实验部分 |
| 5.2.1 实验药品 |
| 5.2.2 实验步骤 |
| 5.2.3 表征方法 |
| 第三节 结果与讨论 |
| 5.3.1 纳米银三角板的合成 |
| 5.3.2 Ag@SiO_2复合纳米粒子的合成 |
| 5.3.3 Ag@PNIPAM复合微凝胶的合成 |
| 5.3.4 Ag@PNIPAM复合微凝胶的光敏感性 |
| 第四节 本章小结 |
| 第六章 总结 |
| 参考文献 |
| 个人简历在学期间发表的学术论文与研究成果 |
（4）高品质因子谐振型介质超表面的研究及应用（论文提纲范文）
| 摘要 |
| Abstract |
| 1 绪论 |
| 1.1 选题背景与研究意义 |
| 1.2 超材料概述 |
| 1.3 超表面发展概况 |
| 1.4 谐振型介质超表面研究进展 |
| 1.5 本论文的主要研究内容及创新点 |
| 2 介质超表面的理论基础 |
| 2.1 引言 |
| 2.2 米氏谐振 |
| 2.3 法诺谐振 |
| 2.4 连续域束缚态 |
| 2.5 本章小结 |
| 3 硅基介质超表面的制备与表征 |
| 3.1 器件制备流程 |
| 3.2 介质薄膜沉积 |
| 3.3 电子束曝光 |
| 3.4 硅基干法刻蚀 |
| 3.5 器件参数表征 |
| 3.6 本章小结 |
| 4 高Q值谐振型介质超表面 |
| 4.1 引言 |
| 4.2 结构设计 |
| 4.3 器件制备与测试 |
| 4.4 高Q值介质超表面的应用 |
| 4.5 本章小结 |
| 5 二维材料发光增强 |
| 5.1 研究背景 |
| 5.2 结构设计 |
| 5.3 器件制备 |
| 5.4 器件测试与分析 |
| 5.5 本章小结 |
| 6 硅缺陷发光增强 |
| 6.1 研究背景 |
| 6.2 结构设计 |
| 6.3 器件制备与测试系统 |
| 6.4 器件测试 |
| 6.5 本章小结 |
| 7 总结与展望 |
| 致谢 |
| 参考文献 |
| 附录 1 攻读博士学位期间发表论文目录 |
| 附录 2 论文中英文缩略词简表 |
（5）胶体晶体辅助构筑功能结构（论文提纲范文）
| 提要 |
| 第一章 绪 论 |
| 第一节 胶体晶体的组装 |
| 1.1.1 垂直沉积方法组装胶体晶体 |
| 1.1.1.1 提拉法 |
| 1.1.1.2 恒温快速蒸发法 |
| 1.1.2 力场作用组装胶体晶体 |
| 1.1.2.1 重力场组装 |
| 1.1.2.2 离心场组装 |
| 1.1.2.3 电场组装 |
| 1.1.2.4 静电力场组装 |
| 1.1.3 限域组装胶体晶体 |
| 1.1.3.1 硬模板限域法 |
| 1.1.3.2 软模板限域法 |
| 1.1.4 特殊形貌胶体晶体 |
| 1.1.4.1 非紧密胶体晶体 |
| 1.1.4.2 非球形胶体晶体 |
| 1.1.4.3 缺陷胶体晶体 |
| 第二节 胶体晶体的应用 |
| 1.2.1 功能胶体晶体 |
| 1.2.2 三维胶体晶体的应用 |
| 1.2.2.1 三维有序大孔材料 |
| 1.2.2.2 大孔材料的应用 |
| 1.2.2.3 模板辅助奇特粒子的构筑 |
| 1.2.3 二维胶体晶体的应用 |
| 1.2.3.1 模板应用 |
| 1.2.3.2 辅助去湿行为 |
| 1.2.3.3 双模板应用 |
| 1.2.3.4 微/纳阵列的应用 |
| 第四节 本论文的选题及设计思路 |
| 第二章 基于软光刻技术构筑可调控结构的二维非紧密胶体晶体 |
| 第一节 引 言 |
| 第二节 实验部分 |
| 2.2.1 实验原料 |
| 2.2.2 实验操作 |
| 2.2.2.1 基片处理 |
| 2.2.2.2 胶体晶体的自组装 |
| 2.2.2.3 PDMS 模板的制备 |
| 2.2.2.4 单流程非紧密胶体晶体的构筑 |
| 2.2.2.5 PVA 膜层的去除 |
| 2.2.2.6 循环实验流程 |
| 2.2.2.7 构筑一维微球阵列结构 |
| 2.2.3 表征仪器 |
| 第三节 结果与讨论 |
| 2.3.1 二维胶体晶体的布拉维定义 |
| 2.3.2 晶格间距调控 |
| 2.3.3 晶格间距的理论计算 |
| 2.3.4 晶格结构的调控 |
| 2.3.5 图案化非紧密胶体晶体 |
| 2.3.6 胶体晶体一维结构 |
| 2.3.6.1 PDMS 形变机理 |
| 2.3.6.2 各向同性的PDMS 模板 |
| 2.3.6.3 各向异性的PDMS 模板 |
| 2.3.6.4 平整的PDMS 模板 |
| 第四节 本章小结 |
| 第三章 胶体晶体阵列辅助调控荧光强度 |
| 第一节 引 言 |
| 第二节 实验部分 |
| 3.2.1 实验原料 |
| 3.2.2 实验操作 |
| 3.2.2.1 基片处理 |
| 3.2.2.2 胶体晶体的自组装 |
| 3.2.2.3 CPVKOVDAC 膜层的制备 |
| 3.2.2.4 二维非紧密胶体晶体的制备 |
| 3.2.2.5 实验流程 |
| 3.2.2.6 荧光强度的测试 |
| 3.2.3 表征仪器 |
| 第三节 结果与讨论 |
| 3.3.1 实验操作对荧光强度影响 |
| 3.3.1.1 微球转移过程和HF 刻蚀过程的影响 |
| 3.3.1.2 膜厚度的影响 |
| 3.3.1.3 RIE 过程的影响 |
| 3.3.2 荧光聚合物周期阵列的构筑及荧光表征 |
| 3.3.2.1 相同a/d 阵列的构筑 |
| 3.3.2.2 不同晶格间距阵列的构筑 |
| 3.3.3 机理的理论计算 |
| 3.3.3.1 发射荧光的界面反射 |
| 3.3.3.2 带隙作用 |
| 3.3.3.3 荧光强度计算 |
| 第四节 本章小结 |
| 第四章 可控构筑荧光柱状条形码 |
| 第一节 引 言 |
| 第二节 实验部分 |
| 4.2.1 实验原料 |
| 4.2.2 实验操作 |
| 4.2.2.1 基片处理 |
| 4.2.2.2 胶体晶体的自组装 |
| 4.2.2.3 二维非紧密微球阵列的构筑 |
| 4.2.2.4 单层纳米柱阵列的制备 |
| 4.2.2.5 双段节纳米柱阵列的构筑 |
| 4.2.2.6 多段节纳米柱阵列的构筑 |
| 4.2.2.7 自支持纳米柱的收集 |
| 4.2.3 表征仪器 |
| 第三节 结果与讨论 |
| 4.3.1 PPV 纳米柱阵列的构筑 |
| 4.3.1.1 纳米柱阵列的形貌 |
| 4.3.1.2 纳米柱阵列的荧光性质 |
| 4.3.1.3 纳米柱阵列高度调节 |
| 4.3.2 多段节纳米柱阵列的构筑 |
| 4.3.2.1 双段节纳米柱阵列 |
| 4.3.2.2 三段节纳米柱阵列 |
| 4.3.2.3 多段节纳米柱阵列 |
| 4.3.3 纳米柱的释放 |
| 4.3.3.1 纳米柱形状完整性 |
| 4.3.3.2 单分散的荧光条形码 |
| 4.3.4 湿敏纳米柱阵列的构筑 |
| 第四节 本章小结 |
| 结论 |
| 参考文献 |
| 致谢 |
| 作者简历 |
| 攻读博士学位期间发表论文 |
| 中文摘要 |
| Abstract |
四、μμ-DIFFRACTION FROM PLANAR DEFECTS OF A PHASE OBCECT（论文参考文献）
- [1]μμ-DIFFRACTION FROM PLANAR DEFECTS OF A PHASE OBCECT[A]. C.M.Cowley. Recent Development of Electron Microscopy--Proceedings of the Second Chinese-Japanese Electron Microscopy Seminar, 1983
- [2]Ⅲ-Ⅴ族半导体与其异质结纳米线的生长（英文）[J]. 李昂,邹进,韩晓东. Science China Materials, 2016(01)
- [3]聚合微凝胶胶体晶体水凝胶的研究与应用[D]. 陈茂. 南开大学, 2015(07)
- [4]高品质因子谐振型介质超表面的研究及应用[D]. 朱良秋. 华中科技大学, 2020(01)
- [5]胶体晶体辅助构筑功能结构[D]. 李晓. 吉林大学, 2010(08)